微弧氧化處理是一種在有色金屬表面原位生長氧化物陶瓷的新技術(shù)。采用微弧氧化技術(shù)對鎂及其合金材料進(jìn)行表面陶瓷化處理,具有工藝過程簡單,占地面積小,工藝處理能力強(qiáng),生產(chǎn)效率高,適用于批量工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。
微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素,電解液(環(huán)保型)抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高,因而對環(huán)境污染小,滿足環(huán)保、清潔生產(chǎn)的需要;通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層,以滿足不同用途的需要;也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色;還可采用不同的電解液對同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理,以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。
鎂合金微弧氧化技術(shù)的工藝流程如下:化學(xué)除油(配合超聲波除油效果更好)清洗微弧氧化清洗封閉烘干成品檢驗(yàn)。
4、生產(chǎn)工藝條件工藝影響因素:
①合金材料及表面狀態(tài)的影響:微弧氧化技術(shù)對鎂工件的合金成分要求不高,對工件表面狀態(tài)也要求不高,一般不需進(jìn)行表面拋光處理。對于粗糙度較高的工件,經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整;而對于粗糙度較低的工件,經(jīng)微弧氧化后,表面粗糙度有所提高。
②電解質(zhì)溶液及其組分的影響:微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù),所得膜層的性質(zhì)也不同。
③氧化電壓及電流密度的影響:微弧氧化電壓和電流密度的控制對獲取合格膜層同樣至關(guān)重要。不同的材料和不同的氧化電解液,具有不同的微弧放電擊穿電壓(擊穿電壓:工件表面剛剛產(chǎn)生微弧放電的電解電壓),
④溫度與攪拌的影響:與常規(guī)的陽極氧化不同,微弧氧化電解液的溫度允許范圍較寬,可在10~60℃條件下進(jìn)行。雖然微弧氧化過程工件表面有大量氣體析出,對電解液有一定的攪拌作用,但為保證氧化溫度和體系組分的均勻,一般需配備電解液攪拌裝置。
⑤微弧氧化時間的影響:微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長,膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。
⑥陰極材料:微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料,可采用碳鋼,不銹鋼或鎳。 ⑦膜層的后續(xù)處理:鎂基工件經(jīng)微弧氧化后可不經(jīng)后處理直接使用,也可對氧化后的膜層進(jìn)行封閉,涂漆,機(jī)械拋光等后處理,進(jìn)一步提高膜的裝飾性。